带坑WO_3单晶纳米片的合成与光学性能

作者：朱庆俊; 俞建长; 黄清明; 张新奇

来源：Acta Chimica Sinica, 2011, (24): 2955-2958.

• SBA-15
• 浸渍-还原法
• 纳米坑
• WO3 SBA-15
• dipping-reduction method
• nano-pits
• tungsten oxide

以介孔二氧化硅(SBA-15)为硬模板,钨酸钠(Na2WO4·2H2O)为钨源,在酸性条件下,用改进的浸渍-还原法合成了具有纳米坑结构的单晶片状WO3材料.用X射线衍射(XRD)、能量扩散X射线(EDX)、扫描电子显微镜(SEM)、高分辨透射电镜(HRTEM)和紫外-可见光区透射光谱(UV-Vis)等手段对产物的组成、形貌和光学性能进行了表征.结果表明,获得的产物为带有纳米坑结构的单晶片状WO3,且在近紫外-可见光区具有较高的透射率.此外,随着煅烧温度的升高,WO3由单斜相转变为单斜相与正交相的混合相,WO3薄膜的紫外-可见光透射率随煅烧温度升高而升高.

• 出版日期2011
• 单位福州大学