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Microstructure and electrical properties of thin HfO2 deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition
作者：Chesnokov Yu M; Miakonkikh A V; Rogozhin A E; Rudenko K V; Vasiliev A L
来源：
Journal of Materials Science
, 2018, 53(10): 7214-7223.
DOI：10.1007/s10853-018-2099-5
出版日期
2018-5
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