碳化硅薄膜的光学特性研究

作者：于威; 吕雪芹; 宋维才; 路万兵; 傅广生

来源：河北大学学报(自然科学版), 2007, (01): 24-27.

• SiC薄膜
• 薄膜结构
• 光学带隙
• 光致发光 SiC film
• film structure
• optical band gap
• photoluminescence

采用螺旋波等离子体增强化学气相沉积(HW-PECVD)技术制备了纳米晶碳化硅(nc-SiC)薄膜,利用傅立叶红外吸收谱(FTIR)、X射线衍射谱(XRD)、紫外-可见透射光谱(UV-Vis)和光致发光谱(PL)对薄膜的结构、光学带隙、发光特性等进行了测量和分析.结果表明,所沉积薄膜主要以Si-C键合结构存在,薄膜中包含有立方结构的3C-SiC晶粒,光学带隙2.59 eV,室温下薄膜表现出强的可见蓝色光致发光,发光峰位随氙灯激发波长的增加呈现红移现象,并将此发光归因于量子限制效应作用的结果.

• 出版日期2007
• 单位河北大学; 唐山师范学院