Al-H共掺杂ZnO薄膜的形貌及光致发光性能研究

作者：陈义川; 胡跃辉; 张效华; 马德福; 刘细妹; 徐斌; 张志明

来源：人工晶体学报, 2013, (12): 2583-2588.

DOI：10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2013.12.004

• Al-H共掺杂ZnO
• 光致发光
• 磁控溅射 Al-H co-doped ZnO
• photoluminescence
• megnetron sputtering

在不同衬底温度条件下采用RF磁控溅射法在石英玻璃上沉积Al-H共掺杂ZnO薄膜。对所有样品进行晶体结构、表面形貌、电学、光学以及室温光致发光性能分析。结果表明:随着衬底温度的升高,ZnO薄膜的结晶度增加,晶粒增大,薄膜致密度增加;薄膜表面起伏变化减小;同时,电阻率最低达到7.58×10-4Ω·cm,透过率保持在75%左右。所有ZnO薄膜样品都以本征发光为主,Al-H共掺杂在一定程度降低ZnO薄膜缺陷发光的强度;随着衬底温度的升高,ZnO薄膜的本征发光强度明显增大;同时在能量为3.45 eV附近观察到了一个紫外发光峰。

• 出版日期2013
• 单位景德镇陶瓷大学