不同方法制备的Ta_2O_5薄膜光学性能和激光损伤阈值的对比分析

作者：许程; 董洪成; 肖祁陵; 麻健勇; 晋云霞; 邵建达

来源：中国激光, 2008, (10): 1595-1599.

• 薄膜
• 激光损伤阈值
• 吸收
• 退火 thin films
• laser induced damage threshold
• absorption
• annealing

采用电子束蒸发(EBE)和离子束溅射(IBS)制备了不同的Ta_2O_5薄膜,同时对电子束蒸发制备的薄膜进行了退火处理。研究了制备的Ta_2O_5薄膜的光学性能、激光损伤阈值(LIDT)、吸收、散射、粗糙度、微缺陷密度和杂质含量。结果表明,退火可使电子束蒸发制备的薄膜的光学性能得到改善,接近离子束溅射的薄膜的光学性能。电子束蒸发制备的薄膜的损伤阈值较低的主要原因在于吸收大,微缺陷密度和杂质含量高,而与薄膜的散射和粗糙度关系不大。退火后薄膜的吸收和微缺陷密度都明显降低,损伤阈值得到提高。退火后的薄膜损伤阈值仍然低于溅射得到的薄膜损伤阈值是因为退火并不能降低膜内的杂质含量,因此选用高纯度的蒸发膜料...

• 出版日期2008
• 单位中国科学院上海光学精密机械研究所; 中国科学院大学