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A study of Hf vacancies at Si : HfO(2) heterojunctions

作者：Tang C; Ramprasad R
来源：Applied Physics Letters, 2008, 92(15): 152911.
DOI：10.1063/1.2913008
  • 出版日期2008-4-14

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更新时间：2018-07-16 10:01