射频反应磁控溅射制备ZnO薄膜的微结构及其光学性能

作者：夏齐萍; 汪小小; 吕建国; 宋学萍; 孙兆奇

来源：人工晶体学报, 2011, (02): 430-434.

DOI：10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2011.02.006

• 射频反应磁控溅射
• ZnO薄膜
• 微结构
• 光学性能 RF reactive magnetron sputtering
• ZnO thin films
• microstructure
• optical properties

采用射频反应磁控溅射技术在石英和Si衬底上制备了高度c轴择优取向的ZnO薄膜,样品的氧氩流量比分别为10:40,20:40,30:40,40:40。利用X射线衍射仪、表面轮廓仪、原子力显微镜和紫外-可见分光光度计研究了样品的微结构与光学特性。研究表明:氧氩流量比为30:40的样品结晶质量最好。所制备的ZnO薄膜的可见光平均透射率均大于87%。随着氧氩流量比的增大,薄膜的透射率呈非单调变化,氧氩流量比为30:40的样品在可见光范围的平均透射率可达93%。光学带隙随着氧氩流量比的增大,先增大后减小。与块材ZnO的带隙(3.37 eV)相比,ZnO薄膜的带隙均变窄。

• 出版日期2011
• 单位安徽大学; 合肥师范学院