低能离子束诱导单晶硅点状纳米结构与光学性能研究

作者：陈智利; 刘卫国

来源：光学学报, 2013, (09): 245-250.

• 表面光学
• 微纳米制造技术
• 自组织纳米结构
• 低能离子束刻蚀
• 表面形貌
• 光学透射率 optics at surfaces
• micro and nano-fabrication technology
• self-organized nano structures
• low energy ion beam erosion
• surface topography
• optical transmittance

使用微波回旋共振离子源,研究了低能Ar+束在不同入射角度下对旋转单晶硅(100)表面的刻蚀效果及其光学性能。结果表明:样品旋转、离子束能量为1000eV、束流密度为265μA/cm2、刻蚀时间为60min时,在不同入射角度下,刻蚀后的样品表面可形成均匀的自组装点状结构。入射角度为0°～25°时,随着角度增加,样品表面粗糙度增大,点状结构有序性更强,光学透射率提高;继续增加入射角度,样品表面粗糙度及点状结构尺寸开始减小,光学透射率降低;增加入射角度到45$时,自组装点状结构消失,粗糙度和平均光学透射率达到最小值分别为0.83nm和55.05%;进一步增加入射角度,样品表面再次出现自组织装点状结构...

• 出版日期2013
• 单位西安电子科技大学