将聚羟基铝离子引入蒙脱石层间 ,制成铝柱蒙脱石。铝柱蒙脱石的结构可保持到 70 0℃以上 ,90 0℃时蒙脱石特征峰消失 ,110 0℃时生成柱状细晶结构莫来石。层间氧化铝具有较高的反应活性 ,且由于受到蒙脱石层间距的限制 ,体积较小 ,生成的莫来石呈现细晶结构 ,直径约为 10 0～ 5 0 0nm。
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