利用电弧离子镀技术在不锈钢、硅衬底及玻璃衬底上沉积了ＴｉＮ薄膜，并在大气环境下进行了７００℃３０ｍｉｎ退火处理。测量了其退火前后的硬度，Ｘ射线分析了退火前后的成分，对硅衬底上沉积的薄膜则测量了退火前的电阻率变化。在玻璃衬底上改变实验条件沉积了不同颜色的薄膜，测量了不同色泽薄膜的电阻率和制备条件的关系。对退火后薄膜内微观结构的变化进行初步分析，由此讨论了退火后薄膜硬度及电阻率变化的原因，并解释了制备条件变化及退火处理对所制薄膜色泽影响及机理。
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