采用阳极电化学沉积技术在钕铁硼表面制备了CeO2薄膜,研究了沉积电位对薄膜结构和耐蚀性能的影响。结果表明:随着沉积电位的增大,薄膜变得致密,CeO2含量有增大的趋势;沉积电位过大时,又会引起薄膜的局部脱落。薄膜在3.5%NaCl溶液中的腐蚀速率也是呈先增大后减小趋势,当沉积电位为0.8V时,获得的薄膜耐蚀性能最佳。
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