KDP晶体的磁流变抛光工艺研究

作者：曾育伟; 李圣怡; 戴一帆; 彭小强; 胡皓; 聂徐庆

来源：航空精密制造技术, 2012, 48(04): 6-8+31.

• KDP晶体
• 磁流变抛光
• 表面粗糙度

研究了磁流变液中水含量对KDP工件表面粗糙度的影响;通过在磁流变液循环系统中控制磁流变液的参数,实现了去除函数的稳定,为修形工艺奠定了基础;在自研的KDMRF-200磁流变机床上进行修形实验,口径为Φ75mm的KDP工件面形精度由0.936λ(PV)收敛到0.321λ(PV),低频误差明显改善。

• 出版日期2012
• 单位自动化学院; 国防科学技术大学