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A method to restrain the charging effect on an insulating substrate in high energy electron beam lithography
作者:Yu Mingyan
*
; Zhao Shirui; Jing Yupeng; Shi Yunbo; Chen Baoqin
来源:
Chinese Journal of Semiconductors
, 2014, 35(12): 126002.
DOI:10.1088/1674-4926/35/12/126002
Charging effect
High density biochip
High energy electron beams
Insulating substrates
Liquid crystal display screens
Nano-scale patterns
Pattern distortion
Semiconductor process
出版日期
2014-12-1
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