脉冲激光沉积类金刚石膜技术

作者：郭延龙; 王淑云; 王小兵; 袁孝; 卢常勇; 万强; 孙斌; 程勇

来源：激光与光电子学进展, 2008, (03): 32-37.

• 脉冲激光沉积
• 类金刚石膜
• 超快激光
• 负偏正 pulsed laser deposition
• diamond-like carbon films
• ultra-fast laser
• negative bias

脉冲激光沉积(PLD)技术制备类金刚石(DLC)薄膜存在着金刚石相含量较低、石墨颗粒多、薄膜与衬底附着力差、膜内应力大等技术难题,为此,研究人员研究出了多种技术措施,如通过引入背景气体、超快激光、偏压、磁场以及加热等措施提高了薄膜金刚石相含量;采用金刚石或丙酮靶材、减小单脉冲能量等措施减少了石墨颗粒;采用间歇沉积、真空退火、超快激光等措施减少了膜内应力;合理设计过渡层改善了膜与衬底间的附着力等。这些技术有力地推动了脉冲激光沉积技术的发展。

• 出版日期2008
• 单位武汉军械士官学校; 华中科技大学