摘要

本文根据层片状共晶生长理论,利用时间相关模型对存在对流作用的Al-CuAl2共晶层片间距进行数值求解最小和最大层片间距(λo和λmax)的计算结果与实验结果符合较好,熔体的流动使Al-CuAl2共晶稳态生长的层片间距增加;当层片间距超过λmax时,层片组织处于非稳态:共晶生长速率越低,液相流动的影响越大