研究了氮气分压对薄膜沉积速率、表面形貌、电阻温度系数(TCR)以及电阻率的影响。利用原子力显微镜表征了薄膜的表面形貌,用Alpha-Step IQ台阶仪和四探针测量了薄膜的厚度和方块电阻。结果表明:薄膜沉积速率随氮气分压增大而减小;热处理使薄膜颗粒尺寸均匀,电阻率减小,电阻迟滞减小且TCR由负值变为正值。
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