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Atomic Layer Deposition of Wet-Etch Resistant Silicon Nitride Using Di(sec-butylamino)silane and N-2 Plasma on Planar and 3D Substrate Topographies
作者:Faraz Tahsin; van Drunen Maarten; Knoops Harm C M; Mallikarjunan Anupama; Buchanan Iain; Hausmann Dennis M; Henri Jon; Kessels Wilhelmus M M
来源:
ACS Applied Materials & Interfaces
, 2017, 9(2): 1858-1869.
DOI:10.1021/acsami.6b12267
出版日期
2017-1-18
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