登录
免费注册
首页
论文
论文详情
赞
收藏
引用
分享
科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
Systematic investigation of the reactive ion beam sputter deposition process of SiO2
作者:Mateev Maria; Lautenschlaeger Thomas; Spemann Daniel; Finzel Annemarie; Gerlach Juergen W; Frost Frank; Bundesmann Carsten
来源:
European Physical Journal B
, 2018, 91(2): 45.
DOI:10.1140/epjb/e2018-80453-x
出版日期
2018-2-19
全文
全文
访问全文
相似论文
引用论文
参考文献