多加热区晶体炉温场控制研究

作者：罗军; 王锦昌; 范世; 谈晓臣; 张中礼; 崔维鑫; 黄良甫

来源：人工晶体学报, 2000, S1: 228.

DOI：10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2000.s1.241

• 晶体生长
• 生长炉
• 温场控制 crystal growth
• crystal growth furnace
• temper ature profile control

在一台包含多个加热区的晶体生长实验炉中进行了温场控制实验研究。此炉的炉膛由 7个结构完全相同的陶瓷管电阻式加热器串行排列组成 ,各加热器间有隔热层 ,从而形成 7个加热区。 7对热电偶分别安装在各加热器中部管内壁上。此炉配备以Intel 80c31为核心的计算机温度控制及数据采集系统。该系统采用数字PID方式独立调节 7个加热区的温度 ,从而可以编程实现多种精密控制的静态和动态温场模式 :( 1 )实现高均匀度的等温温场 ,且温场的温度可以匀速升高或降低 ;( 2 )可以用相邻的 3至 4个加热区形成近似线性的梯度温场 ;( 3)通过控制形成温度梯度的加热器和其它加热器有序的匀速降温过程 ,实...

• 出版日期2000
• 单位中国科学院上海硅酸盐研究所; 中国空间技术研究院