摘要

本文主要研究10at.%Si加入对TiAlSiN涂层的影响。采用阴极电弧蒸镀在WC-Co基体上沉积Ti0.5Al0.5N,Ti0.5Al0.4Si0.1N和Ti0.55Al0.35Si0.1N涂层,利用X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)、扫描电镜(SEM)、纳米压痕仪和划痕仪研究了涂层的组织和力学性能,探讨了Si对涂层的性能和结合失效模式的影响机理。结果显示10at.%Si加入后涂层中形成了非晶Si3N4包覆(Ti,Al,Si)N晶的纳米复合结构。TiAlSiN涂层的硬度和韧性升高,但结合强度下降。与Ti0.55Al0.35Si0.1N涂层相比,Ti0.5Al0.4Si0.1...