铜线键合技术的发展与挑战

作者:刘培生; 仝良玉; 王金兰; 沈海军; 施建根; 罗向东
来源:电子元件与材料, 2011, (08): 67-71.
DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2011.08.016

摘要

铜线键合技术近年来发展迅速,超细间距引线键合是目前铜线键合的主要发展趋势。介绍了铜线键合的防氧化措施以及键合参数的优化,并从IMC生长及焊盘铝挤出方面阐述了铜线键合的可靠性机理。针对铜线在超细间距引线键合中面临的问题,介绍了可解决这些问题的镀钯铜线的性能,并阐述了铜线的成弧能力及面临的挑战。

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