摘要

利用能量为2 MeV的高能电子束对金属有机物化学气相沉积方法(MOCVD)生长的非故意掺杂氮化镓(GaN)异质结在室温下进行辐照,辐照剂量分别为1×1015/cm2和5×1015/cm2。经垂直于样品表面的电子辐照后,GaN外延层的(0004)和(10ī2)高分辨X射线衍射峰分别向高角和低角发生移动,表明电子辐照使GaN外延层发生了部分应变弛豫。利用电子背散射衍射(EBSD)对应变弛豫进行了表征。EBSD结果显示,剂量为5×1015/cm2的电子辐照相对于1×1015/cm2的电子辐照可诱导GaN外延层发生更为显著的应变弛豫。卢瑟福背散射/沟道(RBS/C)实验结果表明,5×1015/cm2的...