纳米SiO_2催化六元羧酸对棉织物的抗皱整理研究

作者：王国伟; 庄玲华; 汪海波; 袁爱琳; 孙戒

来源：印染助剂, 2010, (11): 21-23.

• 多元羧酸
• 抗皱整理
• 纳米SiO2
• 正交试验 polycarboxylic acid
• crease-resistant finish
• nano-SiO2
• orthogonal experiment

以六元羧酸DEMB(2,4-二甲基-戊烷-1,2,3,3,4,5-六羧酸)为原料,在纳米SiO2催化下,对纯棉织物进行抗皱整理.用正交试验分析得出了较佳处理条件:DEMB6%;纳米SiO20.2%,140℃焙烘120s.在纳米SiO2催化下,经DEMB处理后棉织物的缓弹折皱回复角可达247°,白度由处理前的91.48降至87.36,强力保留率为90.6%.在相同试验条件下,比较DEMB、四元羧酸DEMA(戊烷-1,3,3,5-四羧酸)、BTCA(丁烷四羧酸)和CA(柠檬酸)的抗皱整理效果,结果表明:经DEMB处理过的棉织物强力和白度较BTCA、DEMA、CA都高,表明DEMB可用作棉织物的抗皱...

• 出版日期2010-11-20
• 单位南京工业大学