镀铝温度对渗铝层/基体界面空洞生长动力学的影响

作者：张伟; 刘爱萍; 文九巴

来源：材料热处理学报, 2012, (04): 127-131.

DOI：10.13289/j.issn.1009-6264.2012.04.027

• 镀铝温度
• 渗铝层
• 基体
• 空洞
• 生长速度 aluminizing temperature
• aluminizing layer
• steel substrate
• void
• growth speed

采用不同的镀铝温度在20碳钢上制备了不同厚度的热浸镀铝层,通过测量热浸镀铝层厚度以及高温氧化后渗铝层/基体界面空洞平均直径和形核数量随氧化时间的变化,研究了镀铝温度对渗铝层/基体界面空洞生长的影响。结果表明:随镀铝温度升高,镀铝后的表面层厚度减小,合金层厚度增加;在高温氧化期间,渗铝层/基体界面空洞的生长速度随镀铝温度的升高而减小,其变化规律与热浸镀铝后表面层厚度随镀铝温度的变化规律相一致;界面空洞平均深度随镀铝温度升高而增加,其变化规律与热浸镀铝后合金层厚度随镀铝温度的变化规律相一致;界面空洞增量随氧化时间的延长先增加而后逐步减少,且镀铝温度越高,空洞形核速度越小。分析了镀铝温度对界面空洞生...

• 出版日期2012
• 单位洛阳理工学院; 河南科技大学