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摘要
目的 研究庆大霉素损伤后耳蜗的顶、中和底回中与氧化应激相关的基因表达谱,以期筛选防治药物性聋的候选基因。方法 选取P2 SD大鼠15只,分离基底膜,将基底膜分为对照组与实验组,每组15条基底膜;实验组使用0.6 mM庆大霉素培养24小时,对照组使用等量PBS培养24小时;每组5条基底膜分别进行免疫荧光染色和毛细胞计数,对照组与实验组各10条基底膜,分为顶、中和底回各三组,提取RNA,利用RT2 ProfilerTMPCR阵列筛选六组与氧化损伤相关的84个基因的表达差异,并对差异基因进行GO分析和相互作用网络分析;利用RT-PCR对候选基因进行验证。结果 实验组庆大霉素损伤后,毛细胞数量减少,且中回和底回的毛细胞数量显著少于顶回;与对照组相比,实验组中84个氧化损伤相关的基因中,顶回共有14个基因表达有生物学意义,其中有12个基因表达上调,2个基因表达下调;中回共有19个基因表达有生物学意义,其中有5个基因表达上调,14个基因表达下调;底回共有10个基因表达有生物学意义,其中有5个基因表达上调,5个基因表达下调;其中Hmox1、Ptgs2、Apoe、Gpx6四个基因在庆大霉素损伤后差异倍数从顶回到底四逐渐减小。蛋白互作分析显示Hmox1是具有最高连接度的关键基因,与9个基因相互作用。RT-PCR验证显示Hmox1基因表达量在庆大霉素损伤后沿耳蜗纵轴差异倍数逐渐减小。结论 庆大霉素损伤过程中,Hmox1可能通过上调其在基底膜顶回的表达起到保护作用,Hmox1可作为庆大霉素损伤中起保护作用的关键候选基因进行深入研究。
- 出版日期2021-11-3
- 单位西京医院; 中国人民解放军空军军医大学
