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Atomic layer deposition (ALD) of tin(IV) oxide films using tetraethyl tin and ozone
作者：Gladfelter Wayne L; Warner Ellis J; Cramer Christopher J
来源：
244th National Fall Meeting of the American-Chemical-Society (ACS)
, 2012-08-19 to 2012-08-23.
出版日期
2012-8-19
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