发射光谱法在等离子体刻蚀废气微量F元素检测中的应用研究

作者：刘慧杰; 黄光周

来源：光谱实验室, 2005, (02): 247-252.

• 发射光谱法
• 等离子体刻蚀
• 氟 Emission Spectrometry
• Plasma Etching
• Fluorine.

以CF4Ar为等离子体刻蚀废气的模拟气体 ,利用发射光谱法分析F。含氟废气中 F原子的发射光谱在6 0 0— 80 0 nm波段内的谱线为 6 97.5 nm和 739.5 nm。研究了电感耦合等离子体放电时射频功率对F元素检测的影响 ,表明提高射频功率可降低 F元素检出限。

• 出版日期2005
• 单位东莞理工学院; 华南理工大学