第十六届国际磁体工艺会议概况

作者：余运佳; 肖立业

来源：低温与超导, 2000, (01): 64-67.

• 强场
• 会议概况
• 高温超导电性
• 超导托卡马克
• 日至
• 磁分离
• 超导限流器
• 托卡马克装置
• 高梯度
• 全超导

1　会议简况第十六届国际磁体工艺会议(SixnteethInternationalConferenceonMagnetTechnology,简称MT-16)于1999年9月26日至10月2日在美国SawgrassMarriottResort,Florida举行,由美国国家强场实验室承办。参加会议代表约420人,有中国、日本、美国、瑞士、德国、法国、意大...

• 出版日期2000
• 单位中国科学院电工研究所