Ni_(75)Al_xV_(25-x)合金中有序畴界结构对界面迁移特征和溶质偏聚的影响(英文)

作者：张明义; 陈铮; 王永欣; 马光; 卢艳丽; 范晓丽

来源：Transactions of Nonferrous Metals Society of China, 2011, (03): 604-611.

• 界面迁移特征
• 溶质偏聚
• 位置选择性
• 微观相场
• 有序畴界 atomic migration characteristic
• solute segregation
• site selectivity
• microscopic phase-field
• ordered domain interface

基于微观相场模型,通过分析Ni75AlxV25-x合金在沉淀过程中D022(Ni3V)相沿[001]方向形成的有序畴界面的界面结构、界面迁移及界面成分,研究界面结构对界面迁移特征和溶质偏聚的影响。研究表明:D022相沿[100]方向形成4种有序畴界,界面的迁移性与界面结构有关,除具有L12相的局部特征的界面(001)//(002)之外,其余3种界面都可以迁移;在界面的迁移过程中,V原子跃迁至最近邻的Ni位置并置换Ni原子,反之亦然,即处在最近邻的Ni原子和V原子发生位置交换而导致界面迁移;在迁移过程中,原子的跃迁行为具有位置选择性,每种可迁移界面都按照特定的原子跃迁模式进行迁移;原子在跃迁过程...

• 出版日期2011
• 单位西北有色金属研究院; 西北工业大学