调制周期、调制比、沉积温度对ZrB_2/W纳米多层膜微结构和机械性能的影响

作者：刘孟寅; 谭明; 刘广庆; 王海媛; 薛凤英; 邓湘云; 李德军

来源：中国科学:技术科学 , 2011, (01): 43-48.

• 离子束辅助沉积
• 多层膜
• 调制周期
• 调制比
• 沉积温度
• 硬度

利用离子束辅助沉积方法(IBAD)在室温和400℃下制备出了单质的ZrB2和W薄膜以及不同调制周期和调制比的ZrB2/W纳米超晶格多.通过XRD,SEM,表面轮廊仪及纳米力学试系统研究了沉积温度和调制周期对纳米多生长、织构、界面结构、机械性能的影响.研究结果表明:在室温条件下,调制周期为13nm时,多的硬度最高可达23.8GPa,而合成中提高沉积温度则有利于提高薄的机械性能.在沉积温度约为400℃时合成的6.7nm调制周期的ZrB2/W多,其硬度和弹性量分别达了32.1和399.1GPa.同时,临界载荷也增大42.8mN,且残余应力减小约-0.7GPa.沉积温度的提高不仅使具有超晶格结构的Zr...

• 出版日期2011
• 单位天津师范大学