铜CMP中温度与质量传递对速率均匀性的影响

作者：尹康达; 王胜利; 刘玉岭; 王辰伟; 岳红维; 郑伟艳

来源：半导体技术, 2012, (10): 768-771.

• 温度
• 质量传递
• 均匀性
• 铜化学机械平坦化
• 去除速率分布 temperature
• mass transfer
• uniformity
• copper chemical mechanical planarization
• removal rate profile

随着集成电路布线层数的增加以及特征尺寸的减小,对材料表面平整度的要求越来越高,如何保证化学机械平坦化(CMP)过程中的速率均匀性是实现高平整的关键。温度和质量传递是影响化学反应速率的主要因素,CMP过程中晶圆表面的温度分布和反应物及产物的质量传递不均匀,会导致去除速率分布不均匀。通过分析抛光速率分布随环境温度的变化规律,来研究晶圆表面温度与质量传递之间的关系,给出了调整CMP均匀性的方法。研究结果表明,环境温度为24℃,工作压力为103 mdaN/cm2(1 kPa=10 mdaN/cm2),背压为93 mdaN/cm2时,片内非均匀性为3.28%,抛光速率为709.8 nm/min,满足工业...

• 出版日期2012
• 单位河北工业大学