纳米硅薄膜研究的最新进展

作者：彭英才; 何宇亮

来源：稀有金属, 1999, (01): 43-56.

• 纳米硅薄膜
• 制备方法
• 结构特征
• 输运性质
• 光学特性 Nanometer silicon film
• Fabrication method
• Structure characteristic
• Transport property
• Photoluminescence property

纳米硅薄膜（ｎｃＳｉ∶Ｈ）是一种新型低维人工半导体材料，它具有新颖的结构特征与独特的物理性质。综合评述了这种材料在制备方法、结构特征、输运性质和发光特性等方面的最新研究进展，并指出了今后的发展方向。

• 出版日期1999
• 单位北京航空航天大学; 河北大学