钼表面(Mo,W)Si_2-Si_3N_4复合涂层的低温氧化行为研究

作者：张厚安; 吴艺辉; 古思勇; 林佳; 庄树新

来源：厦门理工学院学报, 2013, 21(03): 1-4.

DOI：10.19697/j.cnki.1673-4432.2013.03.003

• (Mo,W)Si2-Si3N4涂层
• 钼
• 低温氧化

采用包渗法在钼表面原位制备了(Mo,W)Si2-Si3N4复合涂层,考察了其在大气中于500℃和600℃等温循环的氧化性能,利用XRD和SEM等研究了其组织形貌.结果表明:(Mo,W)Si2-Si3N4涂层具有良好的低温抗氧化性,其在空气中500℃和600℃氧化480 h的氧化速率分别为0.0145 g/(m2·h)和0.0191 g/(m2·h),归因于涂层氧化表面形成了致密的SiO2膜.

• 出版日期2013
• 单位厦门理工学院; 材料科学与工程学院