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基于光栅投影和SLM相移的结构光照明显微装置及方法

方翔; 温凯; 郜鹏; 马英; 刘旻; 郑娟娟; 胡浩; 王俊玲
西安电子科技大学
西安电子科技大学

摘要

本发明公开了一种基于光栅投影和SLM相移的结构光照明显微装置和方法,所述装置包括依次设置的结构光产生单元、相移及光强调制单元和成像单元,其中,结构光产生单元用于产生多束沿不同方向传播的平行光并干涉形成条纹结构光;相移及光强调制单元中的空间光调制器上能够加载不同图样以对条纹结构光同时进行方向选择和相移操作,空间掩膜板用于对条纹结构光进行滤波,使得仅保留每个方向上±1级衍射光而滤掉其它的衍射光;成像单元用于利用滤波后的条纹结构光照明样品并记录在不同条纹结构光照明下的荧光图像。本发明在保持高分辨率的情况下仍然具有高通量成像范围,克服了传统结构光照明显微镜成像通量受SLM或DMD本身像素个数限制的问题。

关键词

-

出版信息

专利状态
授权
专利国别
CHINA
专利有效期
2022-1-20 ~ 2042-1-20
专利号
ZL202210067260.5
公开号
CN114594588A

学科领域

地质学物理学

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