摘要

该文利用自组装技术,在HNO3(质量分数6.5%)刻蚀的铜表面制备了(3-巯基丙基)三甲氧基硅烷(MPTS)与正辛基三乙氧基硅烷(OS)的复合纳米薄膜,并通过红外光谱对膜结构进行了分析。通过扫描电子显微镜确定了该复合膜具有纳米-微米级粗糙结构;静态接触角达158.6°,滚动角为3°,表明该膜具有超疏水性能;盐水实验证明该复合膜有效地提高了铜的耐腐蚀能力。

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