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摘要
选取Ti、Si、玻璃碳3种基底，采用微波等离子体化学气相沉积技术，以CH4/H2为反应源制备超薄多晶金刚石膜。通过SEM、Raman、台阶仪表征并分析所制备的金刚石薄膜整体形态、表面（断面）形貌、组成、应力状态等。结果表明：仅以玻璃碳为基体生长的金刚石膜能自动剥离形成完整自支撑体，且薄膜表面晶粒的晶面显形清晰，膜厚仅为10μm; Raman光谱表征表明薄膜呈强的尖锐金刚石特征峰，且计算的残余应力最低，仅有-0.216 1 GPa。可为超薄自支撑CVD金刚石膜的一步法生长-剥离提供新的技术途径。
- 出版日期2023
- 单位西南科技大学
