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摘要
采用射频溅射法在单晶硅衬底上制备了(Fe0.88Zr0.07B0.05)97Cu3薄膜样品。X射线衍射结果表明,未经任何后期处理的沉积态薄膜为非晶态结构。在5 kHz-13 MHz频率范围内,着重研究了沉积态样品的有效磁导率和巨磁阻抗(GMI)效应的变化特性。研究结果表明,样品具有极好的软磁性能和GMI效应,其矫顽力仅为58 A/m,饱和磁化强度约为1.15×106A/m,在13 MHz的频率下最大巨磁阻抗比达到17%。并发现有效磁导率比随外磁场的变化,在各向异性场Hk≈0.4 kA/m处出现了峰值,GMI效应也在此磁场的位置处出现峰值。这表明GMI效应与磁场诱导的有效磁导率的变化紧密关联。
- 出版日期2007
- 单位台州学院
