多晶氧化钨薄膜的制备及其红外反射调制性能研究

作者：黄银松; 章俞之; 宋力昕; 胡行方

来源：无机材料学报, 2002, (06): 1263-1268.

• 直流反应溅射
• 多晶氧化钨薄膜
• Raman散射
• 红外反射
• 发射率 dc reactive sputtering
• polycrystalline tungsten oxide films
• infrared reflectance

通过工艺参数的优化,采用直流反应溅射工艺成功地制备了具有良好的电化学循环稳定性的多晶氧化钨薄膜.Raman散射光谱研究表明:随着锂离子和电子的共同注入,多晶薄膜中的W6+逐渐被还原为W5+.红外反射测试表明:电子注入薄膜后,成为自由载流子,使得氧化钨薄膜表现出一定的金属特性,具有一定的红外反射调制能力.采用该工艺制备的WO3/ITO/Glass结构的发射率可在0.261～0.589的范围内可逆调节.

• 出版日期2002
• 单位中国科学院上海硅酸盐研究所