分子束外延生长的ZnO压电薄膜及其声表面波器件特性

作者：刘凤娟; 胡佐富; 李振军; 张希清

来源：发光学报, 2012, (03): 328-333.

• ZnO
• MgO缓冲层
• 声表面波 ZnO
• MgO buffer layer
• SAW

用RF-MBE在蓝宝石(0001)衬底上引入MgO和低温ZnO双缓冲层生长了ZnO薄膜,并制备了声表面波器件。在ZnO薄膜中,仅观测到(0002)面的XRD,且衍射峰增强,半高宽减小,表明ZnO薄膜c轴取向性更好,晶体结构更优。室温下自由激子吸收峰更尖锐和吸收边更陡峭以及仅观测到自由激子发光,且发光线宽变窄、发光强度变大,表明ZnO薄膜缺陷密度减小,薄膜质量提高。测得该ZnO压电薄膜的电阻率高达4×107Ω.cm,其声表面波的速度高达5 010 m/s。

• 出版日期2012
• 单位北京交通大学