等离子体压力对辉光放电沉积的a-Si:H膜的组成、结构及性能的影响

作者：王澄; 程如光

来源：无机材料学报, 1986, (01): 64-71.

• 等离子体压力
• Paschen 曲线
• 氢的键合形式
• 转折点 Plasma pressure
• Paschen curve
• Silicondihydride
• Kink

本文主要研究了等离子体压力对射频辉光放电法沉积的非晶硅氢合金(a-Si∶H)膜的组成、结构及性能的影响.它们包括 a-Si∶H 膜的氢含量、氢的键合形式、光致发光、电导率、光电导、自由载流子寿命及传输机理.研究结果表明:等离子体压力按照气体辉光放电的 Paschen 曲线的分布对 a-Si∶H 膜的组成、结构及性能的影响是极为重要的.采用分别落在类 Paschen 曲线的高压分支和低压分支的等离子体压力来制备 a-Si∶H 膜,所得到的样品具有相应的两种类型的组成、结构与性能。文中还首次报道了一个重要的实验结果:a-Si∶H 膜的暗电导率随温度变化的 Arrhenius 曲线在410K 的温度...

• 出版日期1986
• 单位中国科学院上海硅酸盐研究所