<正>(接2013年第1期第96页)残余气体分子撞击着真空室内的所有表面,包括正在生长着的膜层表面。在室温和10-4Pa压力下的空气环境中,形成单一分子层吸附所需的时间只有2.2 s。可见,在蒸发镀膜过程中,如果要获得高纯度的膜层,必须使膜材原子或分子到达基片上的速率大于残余气体到达基片上的速率,只有这样才能制备出纯度好的膜层。这一点
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