摘要

在AZ91D镁合金表面直接化学镀镍。研究了镍离子的质量浓度、缓蚀剂的体积分数、温度、pH值对镀速及镀层孔隙率的影响,得到最佳的工艺条件为:镍离子8.8g/L,乳酸25g/L,次磷酸钠29g/L,氟化氢铵10g/L,缓蚀剂1.77mL/L,铅离子1.5mg/L,硫脲4mg/L,pH值5.5,温度85℃。结果表明:镀层均匀,结合力良好。