N掺杂和Cu沉积TiO_2纳米管紫外光光电响应研究

作者：邓小红; 王博; 覃智波; 李刚; 张志龙; 覃礼钊

来源：河南工程学院学报(自然科学版), 2010, (04): 4-7.

• TiO2纳米管
• N离子掺杂
• Cu纳米颗粒沉积
• 光电性能 TiO2 nanotubes
• N doping
• Cu nanoparticle deposition
• photoelectric performance

研究了用阳极氧化法在钛基底表面上生长致密有序的TiO2纳米管阵列,然后用湿法掺杂N、光化学方法沉积Cu对TiO2纳米管阵列进行改性,并研究改性纳米管对紫外光光电响应的影响.用X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)进行晶型和形貌表征.结果显示,改性前后纳米管都为锐钛矿;其内径约90 nm,管壁厚约12 nm,是中空的管状结构;掺杂N和沉积Cu对二氧化钛纳米管的晶型和形貌没有显著影响.测试改性前后TiO2纳米管在紫外光照射下的恒电位电流—时间(—It)关系曲线表明:掺杂N使TiO2纳米管光电性能降低,沉积Cu使TiO2纳米管的光电性能增强.

• 出版日期2010
• 单位西南大学