Ni包覆Al2O3粉体的RCVD法制备及机理研究

作者：葛梦妮; 李亚辉; 周华思; 郭珈旭; 张建峰

来源：材料科学与工艺, 2017, 25(04): 78-83.

• Al2O3粉体
• 镍纳米粒子
• 粉体包覆
• 旋转化学气相沉积法(RCVD)
• 包覆机理
• 包覆层

金属Ni包覆于陶瓷粉体的表面,可以促进其烧结、提高导电性或赋予新的功能性质.本文采用旋转化学气相沉积法(RCVD),利用二茂镍(NiCp2)前驱体的热分解,借助载体氢气对反应的催化促进作用,在Al2O3粉体表面包覆了均匀分散的Ni纳米粒子,并研究了包覆温度和原料供应速率对反应产物物相、粒度和形貌的影响规律.研究表明,在包覆温度为450550℃、前驱体二茂镍(NiCp2)供给速率为(0.62.0)×10-6kg/s条件下,通过对反应过程中镍纳米粒子的包覆温度和前驱体二茂镍(NiCp2)供给速率调控可对镍纳米粒子的粒径大小和包覆层数进行调控.结合实验结果,分析了载体氢气对二茂镍反应的催化促进作用,阐述了旋转化学气相沉积条件下Ni纳米粒子在Al2O3粉体表面均匀包覆的过程与机制.通过调控包覆温度和原料供应速率,可以影响前驱体二茂镍的分解行为,从而调控镍纳米粒子在Al2O3粉体表面的包覆状态.

• 出版日期2017
• 单位材料学院; 河海大学