电荷俘获存储器界面缺陷生长模型及其可靠性模拟

作者:王泰寰; 伦志远; 矫亦朋; 刘晓彦; 杜刚
来源:北京大学学报(自然科学版), 2014, 50(04): 781-785.
DOI:10.13209/j.0479-8023.2014.100

摘要

建立界面缺陷态密度随时间变化的模型。对电荷俘获存储器在不同应力条件下的可靠性进行模拟,为正常工作情形下,电荷俘获存储器内界面缺陷的生长机制以及不同应力条件下器件性能的退化提供预测工具。

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