摘要
通过高分辨X射线衍射仪中的二维点阵研究了溅射的CdTe介质膜对HgCdTe外延层的影响 .发现在高溅射能量下沉积的钝化膜由于应力的作用 ,HgCdTe晶片出现弯曲及大量镶嵌结构 ,而这种镶嵌结构可通过合理的热处理工艺消除
- 出版日期2005
- 单位中国科学院上海技术物理研究所
通过高分辨X射线衍射仪中的二维点阵研究了溅射的CdTe介质膜对HgCdTe外延层的影响 .发现在高溅射能量下沉积的钝化膜由于应力的作用 ,HgCdTe晶片出现弯曲及大量镶嵌结构 ,而这种镶嵌结构可通过合理的热处理工艺消除