大尺寸硅片自旋转磨削运动分析及仿真

作者：陈卓; 魏昕; 任庆磊; 谢小柱

来源：金刚石与磨料磨具工程, 2009, (05): 1-6+12.

DOI：10.13394/j.cnki.jgszz.2009.05.001

• 硅片自旋转磨削
• 磨削轨迹
• 磨粒合成运动速度

本文利用数学矩阵方法,建立大尺寸硅片自旋转磨削运动的理论模型,研究了砂轮半径、硅片和砂轮旋转速度、旋转方向等因素的选择及各因素对磨削轨迹的影响,同时还研究了磨粒合成运动速度的变化规律。研究结果表明,随着砂轮半径的增大,磨削轨迹的曲率减小,选用较小直径砂轮将更有利硅片表面质量的提高。当转速比i大于零,随着i值的增大,磨削轨迹的曲率逐渐减小。在转速比i小于零的情形,当转速比i=-2时,磨削轨迹曲率为0,磨削轨迹的形状接近一条直线。磨粒合成运动速度随砂轮转速和硅片转速的增大而增大。

• 出版日期2009
• 单位广东工业大学