基于密度函数理论和广义梯度近似原理,计算了锑化镓(Ga Sb)体结构中的不同缺陷的形成能。计算结果表明,无论是在Ga-rich晶体条件下还是Sb-rich晶体条件下,主要的缺陷都是空位缺陷VGa和反应缺陷GaSb,这解释了Ga Sb在不同生长条件下总是P型半导体的原因。