UHVCVD外延设备的热场设计

作者：李佳; 魏唯; 何华云; 宁宗娥

来源：电子工业专用设备, 2013, 42(05): 19-22.

• 超高真空化学气相沉积
• 锗硅
• 热场

介绍了超高真空化学气相沉积(UHVCVD)锗硅外延设备的加热室设计方法,完善了相关的炉体设计,相关温度指标达到设计标准。

• 出版日期2013
• 单位中国电子科技集团公司第四十八研究所