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Anisotropic growth mechanism of tungsten diselenide domains using chemical vapor deposition method
作者：Lee Yoobeen; Jeong Heekyung; Park Yi Seul; Han Seulki; Noh Jaegeun; Lee Jin Seok
来源：
Applied Surface Science
, 2018, 432: 170-175.
DOI：10.1016/j.apsusc.2017.07.060
出版日期
2018-2-28
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